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고온 확산 전기로
- 보유부서첨단의료기기개발지원센터 오송첨단의료산업진흥재단
- 제조사㈜피앤테크
- 모델명PF-D62 Furnace System
장비개요
프로세스 챔버의 공정 온도를 1000℃ 이상으로 5℃~15℃/min 승온 속도로 서서히 가열하고 챔버에 일정 가스를 Flow 시키는 환경을 만들어 고온에서 장시간동안 공정이 가능한 열처리 장비로 생체이식형 전극 및 센서 표면의 열처리, 생체이식형 전극 및 센서 표면의 다공성 금속 형성에 활용.
장비상세정보
취득일자 | 2015-05-12 | 제작국가 | 대한민국 |
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장비상태 | 활용 | 활용범위 | 기관외부활용 |
장비용도 | 분석 | 설치장소 | 충청북도 청주시 흥덕구 오송읍 오송생명로 123 오송첨단의료산업진흥재단 첨단의료기기개발지원센터 F3층 318호 |
연락처 | 0432009691 |
규격 및 특징
1. Furnace (Wet/Dry Oxidation) - Max Temperature : 1150℃ - Process Temperature : 800℃~1100℃ - Max. Ramp Up Rate : Max. 15℃/min - Temperature Stability : 400~800℃ : ±1.0℃, 800~1100℃ : ±0.5℃ - Flat Zone : 150mm - Paddle : Quartz & Al2O3 2 Bar Type - Boat Loader : Cantilever Type - Number of Zone : 3-Zone - Boat : 2 Boat / Tube (시편용 Tray, 4” ,6” 제공) - Heater : Kanthal A-1 2. Gas system - Used gas : N2, O2, N2 Carrier - Water DI bubbler / Heating mantle : Capacity 5000 cc - Gas flow control with MFC - Air valve / Check valve - Gas line used 316L - MFC Controller : Yokogawa PLC Input, Output, A/D, D/A Card Control, PID Module - Gas Box 에 Spare Port 1 Loop 추가
3. Quartz ware - Process Tube (6") - Quartz Boat : 시편용 Tray, 4“, 6" 25 slot - Quartz Door & Quartz Adaptor - Quartz 2 Bar Sheath) - Profile T/C (Include Sheath 4. Process - Oxidation thickness uniformity (Target : Wet 2000Å) - Within wafer : ± 2% - Wafer to wafer : ± 2% - Run to Run : ± 2%
5. Controller - Control Type : PC Control System - PC Spec : Pentium